معرفة الفرق بين طلاء الفراغ وطلاء المياه

معرفة الفرق بين طلاء الفراغ وطلاء المياه

إذا سألك شخص ما ، ما هو الطلاء بالكهرباء؟ ماذا تقول؟ البعض يقول طلاء الماء ، والبعض يقول فراغ الطلاء. وهو الحق؟ في الواقع ، "الكهربائي" يعني أشياء مختلفة في صناعات مختلفة. على سبيل المثال ، في صناعة الهاتف المحمول الحالية ، هناك عدد قليل من التطبيقات من الطلاء الكهربائي بالماء. في عديد من الناس ، يشير الطلاء الكهربائي عمومًا إلى الطلاء بالشفط ، بينما يتم تطبيق الطلاء الكهربائي للماء على نطاق واسع في صناعة الأدوات الصحية ، وبالطبع ، يشير الطلاء الكهربائي العادي إلى الطلاء الكهربائي للماء. كل من الطلاء الكهربائي للماء والطلاء الفراغي ينتمي إلى فيلم الكهربائي. لنبدأ من تصنيف طبقة الطلاء ، ونرى الفرق بين أنواع مختلفة من الطلاء.

تصنف منتجات الطلاء الكهربائي على النحو التالي وفقاً لطريقة التشكيل:

1. طريقة المرحلة الصلبة: ---> التغيير الكيميائي.

2. طريقة الطور السائل: ---> التغيير الكيميائي

3. طريقة الأرصاد الجوية: -> التغيرات الكيميائية والفيزيائية

المصنفة على النحو التالي:

وتشمل طرق الطلاء الشائعة: الطلاء بالماء ، الأنودة ، التبخر بالشفط ، ترشيش الفراغ والطلاء الأيوني.

تصفيح المياه:

كلمات البحث: انوديك الذوبان ، الكاثود المرفق ، التفاعل الكهروكيميائي

يتم استخدام طريقة الطلاء الكهربائي للماء بشكل رئيسي لخلق تأثير عاكس عالي وزيادة طبقة التصاق ، الخ. مزاياها هي مساحة كبيرة من الطلاء ، منخفضة التكلفة ، سمية عالية للكهارل وتلوث صناعي كبير.

خط تصفيح المياه

عملية أكسدة انوديك :

كلمات البحث: فيلم أكسيد الفلز ، التفاعل الكهروكيميائي

ويمكن أيضا أن الأكسدة انوديك في Ta2O2 ، TiO2 ، ZrO2 ، Nb2O5 ، HfO2 ، WO3 ، وما إلى ذلك ، تستخدم أساسا فيلم واقية أو تلوين فيلم الزخرفية.

منتج بأكسيد

يسمى التبخر الفراغي أيضا التبخر الحراري

معالجة الكلمات الرئيسية: ارتفاع درجة حرارة التبخر الذائب ، ترسب بعد تغطية الفيلم

وفقا لأساليب التسخين المختلفة لمواد الأفلام ، يمكن تقسيم التبخر الفراغي إلى نوع التسخين غير المباشر ونوع التسخين المباشر.

1. نوع التسخين غير المباشر: فقط لمصدر التبخر ، مما يؤدي بشكل غير مباشر إلى تلاشي مادة الفيلم عليه بسبب الحرارة ؛

2. نوع التسخين المباشر: يستخدم جزيئات عالية الطاقة (شعاع الإلكترون ، البلازما أو الليزر) أو التردد العالي لتسخين المادة السينمائية مباشرة على مصدر التبخر و تتبخر ؛ *

لتجنب تبخر المصدر (الحاوية) مع مادة الفيلم ، يجب أن تكون نقطة انصهار المادة المصدر أعلى من نقطة غليان مادة الفيلم.

مبدأ التبخر

التدفئة المقاومة والتبخر

يتم تسخين مادة الفيلم بشكل غير مباشر بواسطة الطاقة الحرارية الناتجة عن التيار الكهربائي المار خلال المقاومة. الجهاز كما يلي:

التدفئة المقاومة والتبخر

مساوئ مقاومة التسخين:

1. من الضروري تسخين مصدر التبخر قبل نقل الحرارة إلى مادة الفيلم. مصدر التبخر سهل التصرف على الشوائب المادية أو الرصاص ؛

2. درجة حرارة التسخين لمصدر التبخر محدودة ، ومعظم الأكسيد عند نقطة الانصهار العالية لا يمكن صهره وتبخيره ؛

3. محدودة سرعة التبخر.

4. إذا كانت مادة الطلاء عبارة عن مركب ، فقد تكون متحللة ؛

5. الفيلم ليس من الصعب ، مع كثافة منخفضة وسوء التصاق.

طلاء الاخرق

الكلمات المفتاحية: غاز خامل متأين ، قذف مستهدف ، تقشير مستهدف ، ترسيب ، تبريد ، تشكيل أفلام

مبدأ آلة طلاء الاخرق هو تجويف الهواء الضخ إلى حالة الفراغ ، مباشرة بواسطة مادة الغشاء (الهدف) كأقطاب ، باستخدام أقطاب رؤية الكهرباء 5 kv ~ 15 kv قصف البلازما للمواد المستهدفة ، التهوية بالغاز في نفس الوقت ، تأين الغاز ، تتحرك الجزيئات داخل البلازما ، والمواد المستهدفة للأيونات المستهدفة والذرات المادية التي ترسبت على سطح الركيزة ، وتبريد المكثف في الفيلم.

المغنطرون الاخرق ترسب

يتم تحسين هيكل القطب على أساس التردد الكهربائي أو تردد الراديو ، أي ، يتم ترتيب مغناطيس دائم على الجانب الداخلي من الكاثود ، والمجال المغناطيسي عمودي على اتجاه المجال الكهربائي في المنطقة المظلمة ، لذلك لتقييد تشغيل الجسيمات المشحونة بالمجال المغناطيسي. هذا الأسلوب الاخرق يسمى الاخرق المغنطروني .

مغنطرون الاخرق الرسم التخطيطي

ولما كانت قوة المجال المغناطيسي متعامدة مع اتجاه الإلكترونات ، فإن قوة الجسيم المركزي لتكوين cyclogenesis للإلكترونات سوف تتشكل. في هذا الوقت ، يزداد احتمال الاصطدام بين الأنواع المحايدة ، ويمكن تصنيع الأغشية الرقيقة عند ضغط منخفض.

بالإضافة إلى الضغط المنخفض ، فإن المزايا الأخرى للماكينة المغنطرونية هي السرعة العالية والحرارة المنخفضة.

لكن الاخرق المغنطروني لديه أيضا بعض المشاكل ، مثل القطب الكهربائي المغناطيسي للتحكم المغناطيسي المستوي ، والمواد الهدف المركزية والطرفية ليست متعامدة مع عنصر المجال المغناطيسي لمحطة الطاقة أكثر وأكثر صغيرة ، أي موازية للسطح المستهدف من المجال المغناطيسي المكون صغير ، في منطقة دائرية على سطح المادة المستهدفة عن طريق الاخرق بسرعة غير معتادة ، في حين أن الرشاش المركزي والحافة أقل ، لذلك سيكون وادي تآكل على شكل w ، ويقلل من معدل الاستفادة من المواد المستهدفة ، وقد يؤثر التوحيد الفيلم.

أيون مبدأ الطلاء

ايون تصفيح

الكلمات المفتاحية: تفريغ الغاز التفريغ ، هدف التفكك ، المادة القاعدية

المبدأ الرئيسي هو فصل مادة الفيلم إلى حالة أيون باستخدام ظاهرة تصريف الغاز ومن ثم إيداعه على الركيزة.

إن نظام الطلاء الكهربائي الأساسي للطلاء الأيوني هو نظام PVD ، الذي يضيف الغازات التفاعلية فقط ليجعلها تتفاعل مع مادة الفيلم بعد التبخر ومن ثم ترسب على الركيزة لتشكيل مركبات. لذلك ، يختلف تكوين طلاء الفيلم عن مادة الفيلم الأصلية ، وهو مركب من المادة الأساسية.

يتكون الطلاء الأيوني في الأساس من ثلاث خطوات:

1. تحويل الذرات الصلبة إلى ذرات غازية: يمكن أن تكون مصادر التبخر المختلفة وآليات التبخير المختلفة عبارة عن تبخر فراغ لتحقيق هذا الغرض ؛

2. تحويل الذرات الغازية إلى حالات الأيونية لزيادة درجة تأين المواد الخام (عادة ما يصل إلى 1) . يمكن استخدام العديد من العناصر الأيونية لنقل الطاقة إلى ذرات المادة الخام لتحقيق درجة التأين في البداية ؛

3. زيادة طاقة المادة الأيونية لتحسين جودة الفيلم: يمكن تحقيق القدرة على تسريع الأيونات من خلال إضافة التحيز السلبي المناسب بشكل أساسي .

خصائص طلاء الأيونات هي كما يلي:

1. يمكن أن يتم طلاء الأيون في درجة حرارة أقل من 600 درجة.

2. التصاق جيد.

3. جيد ينحرف - الطاقة الذرية المشحونة تصل إلى كل السطح الأساسي وترسب الطلاء.

4. سرعة الترسيب سريعة ، تصل إلى 1 ~ 5um ، في حين أن سرعة الاخرق للوحة الثانوية هي 0.01 ~ 1.0um / min فقط ؛

5. خاصية المعالجة وانتقائية المواد الرقيقة تكون واسعة. إلى جانب المعادن ، يمكن معالجة السيراميك والزجاج والبلاستيك.

PVD ثلاث فئات من المقارنة الخصائص التقنية

أعلاه هو تمشيط بسيط لعملية الطلاء المشترك. إذا كنت ترغب في مشاركة محتويات أكثر إثارة للاهتمام ، يمكنك ترك رسالة في نهاية المقال.

IKS PVD تخصيص آلة طلاء الفراغ PVD المناسبة لك ، اتصل بنا الآن.

iks.pvd@foxmail.com