تحليل القدرة على حمل الطاقة من الأهداف Spnetron Sputtering
May 24, 2018| 1. منطقة الهدف وتحميل نطاق الطاقة
(1) كثافة الطاقة للهدف المغنطروني المستدير الدائري هي عادة 1 ~ 25w / cm 2
(2) كثافة الطاقة للهدف المغناطيسي المستطيل المستطيل هو 1 ~ 36w / cm 2
(3) كثافة الطاقة للهدف المغنطروني العمودي والهدف المغناطيسي المستوي المخروطي (S gun) بشكل عام 40 ~ 50w / cm 2 .
2. القوة الفعلية الفعلية للهدف المغنطروني
بالإضافة إلى متطلبات تكنولوجيا الرش و جودة الأفلام ، فإن قوة التحمل الفعلية للهدف المغناطيسي مرتبطة أيضاً ارتباطاً وثيقاً بظروف التبريد وظروف تبديد الحرارة للهدف.
يمكن تقسيم أهداف Magnetron إلى نوعين "هدف مباشر لبرودة المياه" و "هدف تبريد المياه غير المباشر" بناءً على طريقة التبريد.
بالنظر إلى شيخوخة الهدف بعد الاستخدام على المدى الطويل ، فإن ظروف تبديد الحرارة ضعيفة ، ومع الأخذ في الاعتبار معاملات نقل الحرارة المختلفة للمواد المستهدفة المختلفة ، وقوة التحميل القصوى للهدف المغنطروني والقدرة القصوى الفعلية لهدف تبريد الماء المباشر يمكن ضبطه بخفة أقل من الحد الأعلى لنطاق كثافة الطاقة. ويمكن وضع أقصى حمل فعلي لهدف تبريد المياه غير المباشر حوالي نصف الحد الأعلى لمدى كثافة القدرة.
عندما تستهدف المغنطرون (بشكل رئيسي Cu ، Ag ، نحاس أصفر ، و برونز) "self-sputtering" ، فإنها عادة ما تستخدم هدف spnettering spnettering الذي تم تصميمه خصيصًا لـ "تبريد الماء المباشر". يجب أن تكون القدرة الحاملة النهائية للاستخدام أكبر من الحد الأعلى لنطاق كثافة الطاقة الهدف.