المبادئ الأساسية لعملية PECVD
Jun 26, 2023| تستخدم تقنية PECVD بلازما ذات درجة حرارة منخفضة لتوليد تفريغ توهج على الكاثود الخاص بغرفة العملية (أي ، الدرج حيث يتم وضع العينة) عند ضغط منخفض ، ويستخدم تفريغ التوهج (أو جسم تسخين آخر) لتسخين العينة إلى درجة حرارة منخفضة. درجة حرارة محددة مسبقًا ، ثم تمرر كمية مناسبة من غاز المعالجة ، والتي تمر عبر سلسلة من التفاعلات الكيميائية وتفاعلات البلازما ، وتشكل أخيرًا فيلمًا صلبًا على سطح العينة. يظهر الرسم التخطيطي لمبدأ العملية في الشكل 1. في عملية التفاعل ، يدخل غاز التفاعل إلى تجويف الفرن من مدخل الهواء وينتشر تدريجيًا إلى سطح العينة. تحت تأثير المجال الكهربائي الذي يحفزه مصدر تردد الراديو ، يتحلل غاز التفاعل إلى إلكترونات وأيونات ومجموعات نشطة. تخضع مواد التحلل هذه لتفاعلات كيميائية لتشكيل المكونات الأولية للفيلم والمواد المتفاعلة الثانوية ، والتي يتم امتصاصها على سطح العينة في شكل روابط كيميائية لتشكيل نواة غشاء صلبة ، والتي تنمو تدريجياً في جزيرة ، و تستمر الجزيرة في النمو إلى فيلم مستمر. أثناء عملية نمو الفيلم ، يتم فصل العديد من المنتجات الثانوية تدريجيًا عن سطح الفيلم وتفريغها من المخرج تحت تأثير مضخة التفريغ.
شركة IKS PVD ، آلة طلاء الديكور ، آلة طلاء الأدوات ، آلة طلاء DLC ، آلة الطلاء البصري ، خط طلاء الفراغ PVD ، المشروع الجاهز متاح. اتصل بنا الآن ، E-mail: iks.pvd@foxmail.com
