ترسيب البخار الكيميائي (CVD)

ترسيب البخار الكيميائي (CVD)

تستخدم تقنية CVD مركبات غازية أو مخاليط من المركبات للخضوع لتفاعلات كيميائية على سطح تسخين الركيزة ، مما يؤدي إلى تكوين طلاء غير متطاير على سطح الركيزة.
المزايا: عملية بسيطة ، مرونة قوية ، مناسبة للغشاء الفردي أو المركب وطبقة الغشاء ؛ قابلية التطبيق على نطاق واسع يمكن أن يصل معدل الترسيب إلى عدة ميكرونات إلى مئات الميكرونات في الدقيقة ، وكفاءة إنتاج عالية ؛ مناسبة لطلاء مصفوفة الشكل المعقدة ؛ الطلاء لديه اكتناز جيد.
العيوب: درجة حرارة عالية للترسيب ، من السهل أن تؤدي إلى تدهور أداء الركيزة ؛ قد يكون غاز التفاعل وغاز الذيل مادة أكالة وقابلة للاشتعال وسامة إلى حد ما. الطلاء رقيق جدا.
يتم تطبيق طريقة CVD بشكل أساسي في اتجاهين عامين:
1 ، إعداد الطلاء وتحسين وتحسين أداء سطح المواد أو الأجزاء لتحسين أو تحسين مقاومة الأكسدة ومقاومة التآكل ومقاومة التآكل وبعض الخصائص الكهربائية والبصرية والترايبولوجية للمواد أو الأجزاء.
2. تطوير مواد إنشائية جديدة. في الوقت الحاضر ، تم استخدام تقنية CVD على نطاق واسع في العديد من الجوانب ، مثل الفيلم الواقي ، والتكنولوجيا الإلكترونية الدقيقة ، واستخدام الطاقة الشمسية ، واتصالات الألياف الضوئية ، وتكنولوجيا الموصلية الفائقة ، وإعداد مواد جديدة ، وما إلى ذلك.
بالإضافة إلى ذلك ، في تحضير مواد المسحوق ، أصبح استخدام محفز فعال ومستقر لتعزيز عملية تحضير مسحوق CVD ، أو الدمج مع الطرق الفيزيائية لإعداد مواد المسحوق تحت درجات حرارة منخفضة وظروف فراغ عالية هو الاتجاه المستقبلي لتقنية ترسيب البخار الكيميائي تطوير.

شركة IKS PVD ، آلة طلاء الديكور ، آلة طلاء الأدوات ، آلة طلاء DLC ، آلة الطلاء البصري ، خط طلاء الفراغ PVD ، المشروع الجاهز متاح. اتصل بنا الآن ، البريد الإلكتروني:iks.pvd@foxmail.com