نمو الفيلم

وتتكون جميع عمليات ترسب فيلم رقيقة من ثلاث خطوات:

1. إنتاج الفيلم تشكيل الأنواع

2. نقل هذه الأنواع من المصدر إلى الركيزة

3. التكثيف وخياطة على الركيزة

في بد الخطوة الأولى هي إما التبخر أو الاخرق، والخطوة الثانية يعني نقل خط البصر إذا كان ضغط العملية منخفضة جدا وهناك احتمال صغير للاصطدامات أو نقل التدفق إذا كان الضغط مرتفع. نوع النقل يؤثر على النمو الفعلي للفيلم في الخطوة الثالثة.

عندما تصل ذرة إلى سطح الركيزة ويجري كثف، وسوف تنتشر على السطح حتى يتم إما ديسوربد أو عالقة إلى موقع مواتية حيوية. يعتمد هذا الانتشار على السطح على طاقة الذرة عند وصولها إلى السطح، وإذا تم تزويد الركيزة بقدرة إضافية، على سبيل المثال عن طريق التسخين أو القصف الأيوني. الطاقة من الذرة تعتمد على الضغط في غرفة ترسب، وارتفاع ضغط انخفاض الطاقة بسبب فقدان الطاقة في الاصطدامات. القصف الأيوني من السطح ممكن في البلازما الأساليب القائمة ويمكن السيطرة عليها من قبل الجهد التحيز السلبية من الركيزة فيما يتعلق البلازما.

إذا كانت الذرة تلتصق ذرة فيلم أخرى على السطح، يتم إنشاء زوج منخفض الحركة وهذا يزيد من احتمال وجود ذرة أخرى تلتصق بها. في عدد حرج من الذرات، أو حجم النوى الحرجة، يتم تشكيل النواة. وسوف تنمو هذه النوى إلى الجزر البلورية التي سوف تتجمع عند اجتماع بعضها البعض، وأخيرا تشكيل فيلم مستمر. اعتمادا على المعلمات العملية سوف يستمر نمو الفيلم بطرق مختلفة إعطاء المجهرية مختلفة. الفيلم يمكن أن تنمو طبقة تلو طبقة أو في جزر 3D أو في مزيج من هذين النمو وسائط.

في بد نمو الفيلم غالبا ما يكون عمودي، أي البلورات تنمو في أعمدة مع حدود الحبوب أكثر أو أقل تطورا بينهما. حدود الحبوب يمكن أن تحتوي على الفراغات وتتدهور معظم خصائص الفيلم، ولكن الحقيقي، كثيفة فيلم عمودي يمكن أن يكون على سبيل المثال خصائص تريبولوجية ممتازة. وكثافة كاملة المجهرية في الفيلم هو في كثير من الأحيان مرغوب فيه جدا. كما يتم تعزيز المجهرية الكثيفة بالقصف الأيوني للفيلم المتزايد، مثل هذه الأفلام يمكن أن تودع في كثير من الأحيان من قبل بد-ميثودس في البلازما عالية الكثافة.

وقد وضعت العديد من نماذج نمو الفيلم لتأثير حالة ترسب على المجهرية للفيلم. وتستخدم عادة نماذج منطقة الهيكل التجريبي حيث يتم تحديد أنماط نمو مختلفة (مناطق) في مخطط لدرجات حرارة مختلفة إلى نسب درجة حرارة الانصهار (T / T m). وقد نشر جون أ. ثورنتون في عام 1977 استعراضا مستفيضا لهذه النماذج، وفيما يلي موجز موجز لذلك. صنف موفشان وديمشيشين التصنيف التالي: المنطقة 1 تظهر عند T / T <0.3 وتتميز="" بخشونة="" سطح="" عالية="" وخطوط="" حبوب=""> تظهر المنطقة 2 عند 0.3 <0.5 وتتميز="" بحصيرة،="" سطح="" أملس="" وحبوب="" عمودية="" ذات="" حدود="" واضحة=""> تظهر المنطقة 3 عند 0.5 <1 وتتميز="" بسطح="" مشرق="" وحبوب=""> هيكل وخصائص هذه المنطقة هي قريبة من المواد السائبة. وقد اقترح ثورنتون نموذجا موسعا حيث يتم إضافة تأثير ضغط الغاز العملية إلى محور ثان في الرسم التخطيطي. في هذا الرسم البياني يمكن تحديد المنطقة الرابعة (المنطقة T، الانتقالية) بين المنطقة 1 والمنطقة 2. بنية المنطقة T كثيفة وليفية دون حدود الحبوب باطلة.